Concours de la meilleure photographie d'un lieu de mémoire (de la Résistance et de la Déportation)

Thème principal : Histoire et mémoire

Public(s) :

  • collège
  • lycée Général et Technologique
  • lycée professionnel
  • Date limite de participation : Avant le 14 juillet 2020
    Type d'événement : Concours 


    Concours de photographie des lieux de mémoire relatifs à la résistance intérieure et extérieure, à l'internement et à la déportation.

    Organisateurs : Opération organisée par la Fondation de la Résistance, la Fondation pour la mémoire de la déportation et la Fondation Charles-de-Gaulle.

    Site de l'action :
    http://www.fondationresistance.org/pages/action_pedag/concours_p.htm